НаноФаб 100      Модуль ФИП   Модули ФИП относятся к числу основных модулей платформы НаноФаб 100 и предназначены для проведения технологических операций с применением Фокусированных Ионных Пучков, в том числе операций нанолитографии, локального роста, резки и визуализации наноэлементов и наноструктур, очистки поверхности п/п пластин и пр.    Высокая степень автоматизации и высокий уровень прецизионности используемых в модулях ФИП и СЗМ координатных столов дают возможность совмещения участков образца, обрабатываемых ионным пучком в модуле ФИП и исследуемых либо обрабатываемых методами зондовой микроскопии в модуле СЗМ.     В состав платформы НаноФаб 100  входят два типа модулей ФИП - сверхвысоковакуумный и снабженный системой ввода паров элементо-органических соединений, таким образом модули ФИП обеспечивают практически все значимые "top-down" и "bottom-up" ФИП технологии.

Основные параметры сверхвысоковакуумного модуля ФИП
Размер образца		От 10 до 100 мм в диаметре, до 8 мм в высоту
Вес образца		До 150 г.
ФИП система
Размер пятна		10 нм при РО=12 мм
Рабочее поле		300х300 мкм
Рабочий отрезок		от 12 до 27 мм
Энергия пучка		3-30 кЭв
Ионный ток		от 1 пА до 20 нА
Время отсечки тока		100 нсек
Плотность тока		20 А/см2
Время жизни галлиевого источника		не менее 1500 мкАчас
Координатный стол
XY позиционирование образца		100x100 мм
Скорость перемещения координатного стола		250 мм/cек
Разрешение репозиционирования		менее 1 мкм (peak-to-peak)
Вакуум		1.2x10-8 Па
Возможность прогрева системы		до 150оС
Виброизоляция	Активная	1-200 Гц
	Пассивная	выше 200Г ц

Основные параметры модуля ФИП + CVD
Размер образца		От 10 до 100 мм в диаметре, до 8 мм в высоту
Вес образца		До 150 г.
ФИП система
Размер пятна		10 нм при РО=12 мм
Рабочее поле		300х300 мкм
Рабочий отрезок		от 12 до 27 мм
Энергия пучка		3-30 кЭв
Ионный ток		от 1 пА до 20 нА
Время отсечки тока		100 нсек
Плотность тока		20 А/см2
Время жизни галлиевого источника		не менее 1000 мкАчас
Система порционного, локального ввода паров элементоорганических соедиений		до 4-х соединений
Координатный стол
XY позиционирование образца		100x100 мм
Скорость перемещения координатного стола		250 мм/cек
Разрешение репозиционирования		менее 1 мкм (peak-to-peak)
Вакуум		не хуже 7x10-3 Па
Возможность прогрева системы		до 150оС
Виброизоляция	Активная	1-200 Гц
	Пассивная	выше 200Г ц